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We report a quantitative investigation of direct electron beam writing in monolayer films of passivated gold nanoclusters. In this process, the passivating organic ligands are (partially) removed to create gold-based nanostructures. We report the fabrication of lines with width as narrow as 26 nm, while measurements of the linewidth as a function of dose allow us to obtain a quantitative measure of the sensitivity, for comparison with established negative tone resists.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0003-6951
eISSN: 1077-3118
DOI: 10.1063/1.1354154
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1063_1_1354154
Format
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Weiterführende Literatur
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