Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Zur Ergebnisliste
Ergebnis 11 von 51
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Selective Copper Chemical Vapor Deposition Using Pd-Activated Organosilane Films
Langmuir, 1995-06, Vol.11 (6), p.1841-1845
1995

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Selective Copper Chemical Vapor Deposition Using Pd-Activated Organosilane Films
Ist Teil von
  • Langmuir, 1995-06, Vol.11 (6), p.1841-1845
Ort / Verlag
Washington, DC: American Chemical Society
Erscheinungsjahr
1995
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0743-7463
eISSN: 1520-5827
DOI: 10.1021/la00006a001
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1021_la00006a001
Format
–
Schlagworte
Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.), Cross-disciplinary physics: materials science, rheology, Exact sciences and technology, Materials science, Methods of deposition of films and coatings, film growth and epitaxy, Physics

Weiterführende Literatur

Empfehlungen zum selben Thema automatisch vorgeschlagen von bX