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"Tailored" organometallics as precursors for the chemical vapor deposition of high-purity palladium and platinum thin films
Journal of the American Chemical Society, 1988-04, Vol.110 (8), p.2688-2689
1988

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
"Tailored" organometallics as precursors for the chemical vapor deposition of high-purity palladium and platinum thin films
Ist Teil von
  • Journal of the American Chemical Society, 1988-04, Vol.110 (8), p.2688-2689
Ort / Verlag
Washington, DC: American Chemical Society
Erscheinungsjahr
1988
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0002-7863
eISSN: 1520-5126
DOI: 10.1021/ja00216a073
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1021_ja00216a073
Format
–
Schlagworte
Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties, Exact sciences and technology, Physics, Surfaces and interfaces, thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties), Thin film structure and morphology

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