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Stable Subloop Behavior in Ferroelectric Si-Doped HfO 2
ACS applied materials & interfaces, 2019-10, Vol.11 (42), p.38929-38936
2019
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Stable Subloop Behavior in Ferroelectric Si-Doped HfO 2
Ist Teil von
  • ACS applied materials & interfaces, 2019-10, Vol.11 (42), p.38929-38936
Erscheinungsjahr
2019
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1944-8244
eISSN: 1944-8252
DOI: 10.1021/acsami.9b12878
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1021_acsami_9b12878
Format
–

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