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Fabrication of high-aspect-ratio silicon nanopillar arrays with the conventional reactive ion etching technique
Applied physics. A, Materials science & processing, 2007-02, Vol.86 (2), p.193-196
2007
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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Fabrication of high-aspect-ratio silicon nanopillar arrays with the conventional reactive ion etching technique
Ist Teil von
  • Applied physics. A, Materials science & processing, 2007-02, Vol.86 (2), p.193-196
Ort / Verlag
Berlin: Springer
Erscheinungsjahr
2007
Quelle
SpringerLink
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0947-8396
eISSN: 1432-0630
DOI: 10.1007/s00339-006-3748-0
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1007_s00339_006_3748_0
Format
–
Schlagworte
Cross-disciplinary physics: materials science, rheology, Exact sciences and technology, Materials science, Nanoscale materials and structures: fabrication and characterization, Other topics in nanoscale materials and structures, Physics, Surface treatments

Weiterführende Literatur

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