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Damage characteristics of n‐GaN thin film surfaces etched by N 2 plasmas
Physica status solidi. C, 2013, Vol.10 (11), p.1553-1556
Kawakami, Retsuo
Niibe, Masahito
Nakano, Yoshitaka
Shirahama, Tatsuo
Yamada, Tetsuya
Aoki, Kazuma
Takabatake, Mari
Tominaga, Kikuo
Mukai, Takashi
2013
Volltextzugriff (PDF)
Details
Autor(en) / Beteiligte
Kawakami, Retsuo
Niibe, Masahito
Nakano, Yoshitaka
Shirahama, Tatsuo
Yamada, Tetsuya
Aoki, Kazuma
Takabatake, Mari
Tominaga, Kikuo
Mukai, Takashi
Titel
Damage characteristics of n‐GaN thin film surfaces etched by N 2 plasmas
Ist Teil von
Physica status solidi. C, 2013, Vol.10 (11), p.1553-1556
Erscheinungsjahr
2013
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
Abstract Damage characteristics of n‐GaN surfaces etched by capacitively‐coupled radio frequency N 2 plasma, generated with a high applied voltage of 400 V, was studied in terms of synergistic effect between ion bombardment and ultraviolet (UV) light irradiation. The result was compared with that obtained with a low applied voltage of 200 V. Morphology of the surface etched at a low gas pressure of 10 mTorr is similar to that of the as‐grown surface even with increasing etching time, whereas N/Ga ratio at the surface decreases. The result can be explained in terms of the physical etching, though the surface is irradiated with the UV light emitted from the plasma. The result obtained at the low gas pressure is independent of the applied voltage. In contrast, the characteristic at the surface etched at a high gas pressure of 50‐100 mTorr depends on the applied voltage. A morphological change in the surface etched with the high applied voltage occurs, whereas the N/Ga ratio increases The increase in the N/Ga ratio is not reproduced by the simulation, which implies the contribution of the UV light irradiation. (© 2013 WILEY‐VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim)
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1862-6351
eISSN: 1610-1642
DOI: 10.1002/pssc.201300190
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1002_pssc_201300190
Format
–
Weiterführende Literatur
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