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Effects of modulation frequency on the structure and electrical characteristics of μc-Si:H films prepared by pulsed VHF-PECVD
Ist Teil von
光电子快报:英文版, 2009 (3), p.212-215
Erscheinungsjahr
2009
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
Modulation frequency and pulse duty cycle are two key parameters of pulsed VHF-PECVD technology. An experimental study on the mierocrystalline silicon materials prepared by pulsed VHF-PECVD technology in high deposition rate is presented. And combining the diagnosis of plasma process with optical emission spectroscopy (OES), the dependence of microstructure and electrical properties of thin films on the pulse modulation frequency is discussed in detail.